术语 | positive resist |
释义 | positive resist 正性光致抗蚀法 In microelectronics, an imaging process in which the exposed region of the photoresist is removed in the development process. 在微电子学中,在显影工序中把曝光区的光致抗蚀剂除去的一种成象工艺。 参阅chip。 |
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